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SRM 2133 - Si深度剖面中的磷種植

英文名稱:Phosphorus Implant in Si Depth Profile
CAS號(hào):
純度:
簡(jiǎn)介:NIST SRM 2133Si深度剖面中磷種植(標(biāo)準(zhǔn)品)旨在用于通過(guò)二次離子質(zhì)譜 (SIMS) 分析技術(shù)校準(zhǔn)對(duì)硅基質(zhì)中微量和痕量磷的二次離子響應(yīng)。
品牌 貨號(hào) 規(guī)格 貨期 價(jià)格
美國(guó)NIST SRM 2133 each 現(xiàn)貨 36795元

產(chǎn)品介紹

NIST SRM 2133Si深度剖面中磷種植(標(biāo)準(zhǔn)品)旨在用于通過(guò)二次離子質(zhì)譜 (SIMS) 分析技術(shù)校準(zhǔn)對(duì)硅基質(zhì)中微量和痕量磷的二次離子響應(yīng)。 SRM 2133 用于校準(zhǔn) SIMS 儀器對(duì)磷的響應(yīng)特定儀器條件下的硅基體。它也可以被實(shí)驗(yàn)室用作校準(zhǔn)硅中磷工作標(biāo)準(zhǔn)的轉(zhuǎn)移標(biāo)準(zhǔn)。該 SRM 由一個(gè) 1 cm × 1 cm 的單晶硅襯底組成,該襯底已離子注入同位素 31P,標(biāo)稱能量為 100 keV。

360截圖20220215181057125.jpg

NIST SRM 2133Si深度剖面中磷種植(標(biāo)準(zhǔn)品) 已通過(guò) 31P 原子保留劑量認(rèn)證。劑量以每單位面積的磷質(zhì)量單位表示。基于 SIMS 分析,提供了關(guān)于磷原子濃度隨地表以下深度變化的其他未經(jīng)認(rèn)證的信息。



認(rèn)證值和不確定性:

31P 原子的總保留劑量通過(guò)放射化學(xué)中子活化分析 (RNAA) 確定。將兩種獨(dú)立制備的磷參考溶液(其中一種是 NIST SRM 3139a 磷標(biāo)準(zhǔn)溶液,經(jīng)過(guò)磷濃度認(rèn)證)的等分試樣沉積在鋁箔并作為標(biāo)準(zhǔn)。得到的認(rèn)證值和擴(kuò)展不確定度為: 認(rèn)證值中的不確定度表示為擴(kuò)展不確定度 U = kuc,其中 k 是 2.0 的覆蓋因子,給出的近似置信水平為 95 %,uc 是計(jì)算得出的組合標(biāo)準(zhǔn)不確定度根據(jù) ISO 指南 [1]。組合標(biāo)準(zhǔn)不確定度是通過(guò)組合從測(cè)量過(guò)程中通過(guò)不確定度傳播得出或估計(jì)的單個(gè)標(biāo)準(zhǔn)不確定度獲得的 [1]。 A 型和 B 型標(biāo)準(zhǔn)不確定度分量來(lái)自以下主要來(lái)源的測(cè)量不確定度:(1) 樣品的測(cè)量重復(fù)和異質(zhì)性,(2) 比較標(biāo)準(zhǔn)的測(cè)量重復(fù),(3) 標(biāo)準(zhǔn)溶液的濃度,(4) 放射化學(xué)雜質(zhì),(5)標(biāo)準(zhǔn)的體積校準(zhǔn),和(6)載體產(chǎn)量的測(cè)定。已考慮所有已知的潛在不確定性來(lái)源





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